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意法半導(dǎo)體發(fā)起SiC攻勢,挑戰(zhàn)英飛凌

來源:NE時代 瀏覽次數(shù):655 發(fā)布日期:2019-05-23

ST Microelectronics(意法半導(dǎo)體)正在進(jìn)行功率半導(dǎo)體攻勢。目前,在功率半導(dǎo)體市場,意法半導(dǎo)體雖位居英飛凌之后,但它希望通過公開發(fā)布旗下的下一代功率半導(dǎo)體——SiC的信息,來捕獲來自電動汽車的需求,爭奪榜首。

2019年3月底,ST首次向媒體公開展示其位于意大利西西里島的卡塔尼亞工廠。這座工廠是碳化硅開發(fā)和制造的所在地。

圖1揭示了功率半導(dǎo)體工廠的內(nèi)部

ST于2019年3月底向媒體透露的一家功率半導(dǎo)體工廠。它位于意大利卡塔尼亞(西西里島東部),占地面積21.8萬平方米。左上角照片是該公司正在專注開發(fā)的150毫米SiC晶圓。

ST表示它是車規(guī)級SiC器件市場中的佼佼者。隨著SiC器件市場規(guī)模在2019年擴(kuò)大到2億美元,較之前一年翻了一番;并且超過20家汽車制造商采用它的SiC產(chǎn)品。在巨大市場規(guī)模以及客戶基礎(chǔ)下,它的SiC產(chǎn)品擁有很大的增長潛力。

ST在工廠開放日講述了技術(shù)發(fā)展的路線圖以及SiC晶圓的貨源鎖定途徑。

平面型與溝槽型

路線圖方面,ST表示,它將開發(fā)出比當(dāng)前第二代平面型具有更低導(dǎo)通電阻的、更精細(xì)的第三代SiC半導(dǎo)體器件,并在2022年至2023年推出(圖3)。其中車規(guī)級耐壓1200 V的SiC半導(dǎo)體器件可降低40%的導(dǎo)通電阻。

圖2溝槽型和GaN的發(fā)展

(a)ST的SiC功率半導(dǎo)體的產(chǎn)品路線圖。平面型SiC半導(dǎo)體持續(xù)小型化,應(yīng)用層面已經(jīng)從工業(yè)設(shè)備擴(kuò)展到汽車和智能手機(jī)。與第二代相比,第三代平面型將導(dǎo)通電阻降低了40%。面積可以減少到1/4。與此同時,ST也在開發(fā)溝槽類型。(b)為客戶提供各種形式。(c)GaN功率半導(dǎo)體也在開發(fā)中。

溝槽型也在開發(fā)中。ST尚未確定是否將溝槽型導(dǎo)入市場。這是因為第三代平面型可以滿足大多數(shù)汽車層級的應(yīng)用。而且溝槽型不容易實現(xiàn)。但是另一方面,溝槽型通常更容易實現(xiàn)密度的增加和導(dǎo)通電阻的降低。因此ST決定一邊監(jiān)控市場需求,一邊準(zhǔn)備溝槽型的導(dǎo)入。

收購Norstel

全球SiC晶圓供貨都存在短缺的情況,于是2019年1月,ST與美國Cree公司達(dá)成協(xié)議,前者向后者采購了相當(dāng)于2.5億美元的150毫米(6英寸)晶圓。

很快,同年2月,ST宣布收購瑞典晶圓制造商N(yùn)orstel的多數(shù)股權(quán)。既便如此,它仍表示會繼續(xù)從Cree采購SiC晶圓,目的是為給包括汽車工業(yè)在內(nèi)的客戶提供更穩(wěn)定的SiC器件。

Norstel正在開發(fā)一種可提高SiC晶圓質(zhì)量且降低成本的制造技術(shù)。它具有高速晶體生長技術(shù)和高品質(zhì)的硅錠技術(shù)。SiC晶圓正是由硅錠加工而成。

在其晶體生長技術(shù)中,它采用了HTCVD(High Temperature Chemical Vapor Deposition,高溫化學(xué)氣相沉積)的方法,與現(xiàn)有方法相比可以將晶體生長速率提高一個數(shù)量級。

ST收購Norstel股權(quán),一方面是擴(kuò)大SiC的貨源,另一方面也是看中了它的新技術(shù)。雖然它認(rèn)為新技術(shù)在批量生產(chǎn)水平上還是不成熟的,但它的目標(biāo)是在幾年內(nèi)能夠用于實際生產(chǎn)中。如果投入實際使用,很有可能在保持低晶體缺陷的同時降低成本。

將Norstel納入麾下后,ST將可以生產(chǎn)晶圓以及器件。通過垂直整合的SiC器件的批量生產(chǎn)鏈,它將可以優(yōu)先采購SiC晶圓,并且具備非常明顯的成本優(yōu)勢。

擴(kuò)充生產(chǎn)線

考慮到功率半導(dǎo)體需求的增加,ST剛剛在卡塔尼亞工廠的主線“M5”旁邊增加了“M9”(圖1)。M9將主要批量生產(chǎn)BCD(雙極,CMOS,DMOS)器件。

關(guān)于SiC器件,卡塔尼亞工廠的晶圓直徑將從150 mm擴(kuò)展到200 mm。此外,ST還將在其2018年從美光科技公司收購來的新加坡工廠大規(guī)模生產(chǎn)200mm晶圓。過去這家工廠是用來批量生產(chǎn)NOR閃存,因此ST為生產(chǎn)200 mm功率半導(dǎo)體而重新改造了設(shè)備。

圖3卡塔尼亞工廠批量生產(chǎn)150毫米/ 200毫米晶圓,并通過AI進(jìn)行質(zhì)量判斷。

該圖顯示了ST卡塔尼亞工廠的功率半導(dǎo)體生產(chǎn)步驟?!癡IPower”是一種將功率晶體管和控制電路集成在一個封裝中的產(chǎn)品。照片顯示了工廠內(nèi)部:首先它會進(jìn)行曝光、蝕刻和擴(kuò)散。在后面的電特性檢查中,它根據(jù)制造裝置的傳感器信號和晶圓的外觀,對晶圓級的每個芯片執(zhí)行探測以確定質(zhì)量。

標(biāo)簽:  半導(dǎo)體,英飛凌
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